技术编号：14723466
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。在半导体工业中，必须对材料进行结构化工艺以能制造相应的功能元件。至今为止，最近十年的最重要的结构化工艺之一仍是光刻法。但是，近年来，除光刻法外，压印技术已作为新型的替代性结构化技术获得认可，其不仅仅，但当前主要用于高度对称的、主要重复性的结构元件的结构化。借助压印技术，可以通过印模工艺（Stempelprozess）直接制成压花材料中的表面结构。由此产生的优点是显而易见的。可以摒弃对光刻法而言仍然必需的用于显影和蚀刻的化学品。此外，今天已经可以压印在纳米范围内的结构大小；用传统光刻法只有通过极复...
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