技术编号：1478780
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及炉管的清洗方法，具体的说，是。 背景技术薄膜沉积制程是在炉管中进行的，经过一定的反应时间需要对炉管进行定期清洗，通常采用干式清洗方法，以三氟化氯(CLF3)作为反应气体来进行清 洗。为了满足三氯化氟的活性，干式清洗程式采用了首先降温到400摄氏度然 后再进行抽真空的动作，然而采用该程式，在对掺杂砷的多晶硅薄膜沉积反应 炉管进行干式清洗的过程中，容易发生热电偶温度计断裂的现象，而且断裂部 位都是在温度计的根部。究其原因主要是在薄膜沉积制程中，多晶硅...
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