技术编号:14832842
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及短波红外焦平面的技术领域,特别是涉及短波红外焦平面自适应非均匀校正算法。背景技术短波红外焦平面阵列的非均匀性会随使用环境温度、成像目标温度、焦平面自身温度、焦平面工作时间长短的变化而变化,校正系数需要实时更新。因此希望有一种短波红外焦平面自适应非均匀校正算法能够有效的解决上述现有技术中的缺陷。发明内容本发明的目的在于提供一种基于logistics和多因子校正模型的短波红外焦平面自适应非均匀校正算法,使用logistics函数结合短波红外焦平面非均匀性模型对焦平面的非均匀性进行回归估计求...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。