技术编号：14834618
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种光刻胶去除装置及其清洗方法，具体是指一种能有效清洗侧壁垫板的光刻胶去除装置及其清洗方法，属于等离子体处理领域。背景技术在采用等离子体处理设备对晶圆表面进行加工的过程中，通过向真空反应腔室引入含有适当刻蚀剂或淀积源气体的反应气体，然后再对该反应腔室施加射频能量，以解离反应气体生成等离子体，用来对放置于反应腔室内的晶圆表面进行刻蚀操作。在定义刻蚀图形时需要首先在晶圆上涂覆一层光刻胶，在等离子处理工艺完成后晶圆表面还覆盖有一层光刻胶层。因此在完成等离子体刻蚀操作之后，需要将晶圆转移至光刻...
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