技术编号:14838456
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属涉及真空磁控溅射镀膜技术领域,涉及一种真空磁控镀膜设备。背景技术离子源是使气体中性原子、分子或粒子发生电离,并从中引出离子束流的装置。离子源是各种类型的离子加速器、质谱仪、电磁同位素分离器、离子注入机、离子推进器等设备不可缺少的部件,在很多真空镀膜设备中具有很重要作用。特别是作为真空镀膜设备的清洗部件,可在无外部环境污染的条件下对镀膜基体内残留的水分子、碳氢化合物等进行高能激发,使其脱离被镀基体或在高能条件下发生分解反应,起到很好清洁、去气、加热作用。同时受等离子体粒子的激发作用,使得基...
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