技术编号：14859563
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及相移掩模坯料及使用该相移掩模坯料的相移掩模的制造方法、以及显示装置的制造方法。背景技术近年来，随着FPD(Flat Panel Display)等显示装置的高分辨率化、高精细化，正在寻求具有优异的图案截面形状及优异的CD均匀性，且形成有微细图案的显示装置用相移掩模。另外，受FPD等显示装置的低价格化的影响，需要消减相移掩模的制造成本。在相移膜上形成有遮光性膜的现有相移掩模坯料的情况下，以抗蚀剂膜图案作为掩模来蚀刻遮光性膜，从而形成遮光性膜图案，然后，以遮光性膜图案作为掩模来蚀刻相移膜，...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。