技术编号:14865103
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及石墨烯制取领域,特别是一种石墨烯制取设备。背景技术石墨烯是一种由碳原子以sp2杂化方式形成的蜂窝状平面薄膜,是一种只有一个原子层厚度的准二维材料,所以又叫做单原子层石墨。由于其十分良好的强度、柔韧、导电、导热、光学特性,石墨烯材料在物理学、材料学、电子信息、航天航空等领域都得到了广泛的应用。比较主流的方法有外延生长法、化学气相沉淀CVD法和氧化石墨还原法等。实用新型内容本实用新型的目的在于克服现有技术的缺点,提供一种石墨烯制取设备。本实用新型的目的通过以下技术方案来实现:一种石墨烯...
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