技术编号：1490902
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明提供了一种，属于太阳能电池生产技术领域。 背景技术硅片清洗对半导体工业的重要性早在50年代初就引起人们的高度重视，这是由 于硅片表面的污染物会严重影响电池片的性能、可靠性和成品率。硅片表面的污染物主要 以原子、离子、分子或膜的形式，以物理或化学的方法存在于硅片表面或硅片表面的氧化膜 中。硅片清洗要求即能去除各类杂质又不破坏硅片。清洗要分物理清洗和化学清洗，化学 清洗分水溶液清洗和气相清洗，由于水溶液清洗价廉而安全，对杂质和基体选择性好，可将 杂质清洗...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。