技术编号:14913207
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于集成电路技术领域,涉及一种碳纳米管束场效应晶体管阵列及其制造方法。背景技术对于载流子运输介质,真空本质上优于固体,因为它允许弹道运输,而在半导体中,载流子会遭受光学和声学声子散射。真空中的电子速度理论上是3×1010cm/s,但在半导体中,电子速度仅约为5×107cm/s。一些科学家认为,在真空晶体管中,似乎只有电子可以在电极之间流动,而空穴不能。除非我们学会处理正电子,否则将不可能做任何互补型电路,例如CMOS。而没有互补型电路,功率将过高,最有可能限制真空晶体管进入细分市场。很难想...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。