技术编号:1494354
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种使得化学制剂流动的方法,以及使用所述方法来制造集成 电路器件的方法和装置,尤其涉及一种使得清洁溶液和蚀刻溶液之类的化学制 剂流动的方法以及使用所述方法来制造半导体器件或平板显示设备之类的集 成电路器件的方法及装置背景技术一般地,半导体器件或者平板显示设备之类的集成电路器件在制造过程中 通常需使用清洁溶液和蚀刻溶液之类化学制剂的重复单元处理。使用化学制剂 的单元处理包括使用清洁溶液的清洁处理和使用蚀刻溶液的蚀刻处理,并且所 述单元处理在容纳有化...
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