技术编号：14947046
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于冷阴极电弧等离子源技术领域，尤其涉及冷阴极电弧等离子源及非接触引弧方法。背景技术阴极电弧沉积是指在真空室中，通过电弧放电产生来自蒸发源(即阴极)薄膜材料的蒸汽发射，并在负偏压作用下沉积在衬底上形成薄膜。电弧放电过程中，阴极蒸发源表面形成一个或多个弧斑，电子、离子、中性原子以及源材料的大颗粒由于电弧斑点的高温高电流密度而发射。源物质离子是薄膜沉积中最重要的物种。阴极电弧沉积特点之一是入射蒸发离子的能量足够高，因此，容易产生高硬度、高耐磨性的高密度薄膜。不仅如此，阴极电弧沉积的成膜速度快速...
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