技术编号：14956694
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明揭示一种聚合物、包含所述聚合物的有机层组成物以及使用所述有机层组成物来形成图案的方法。背景技术近年来，半导体工业朝向具有数至数十纳米尺寸的图案的超精细技术发展。此类超精细技术基本上需要有效微影技术。典型微影技术包含于半导体基板上提供材料层；在其上涂布光阻层；使其曝光且显影以提供光阻图案；及使用光阻图案作为屏蔽来蚀刻材料层。如今，根据欲形成小尺寸的图案，难以仅通过上文所提及的典型微影技术提供具有优良轮廓的精细图案。因此，可在材料层与光阻层之间形成称为硬质屏蔽层(hardmask layer)...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。