技术编号：14964671
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及纳米压印技术领域。更具体地，涉及一种纳米压印模板。背景技术压印技术最早由美国尼苏达大学提出，是一种光刻技术之外的重要薄膜图案化技术，主要包括热压印、紫外压印和微接触压印。其图案化原理可以描述为：在热或者紫外照射下将预先制作的有图案的模版压在压印胶上，再通过脱模、刻蚀多余胶、刻蚀和去胶等工艺，制作与模版相同或者相反的图案。其中为了保护模版，在压印工艺中并不会使模版与压印胶层下面的具有一定硬度的图案化层直接接触，而是在图案化层与压印模版之间留有一定距离的空隙，之后再通过刻蚀多余胶的步骤...
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