技术编号：15015713
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种根据权利要求1的前序部分所述的真空阀和根据权利要求11的前序部分所述的用于真空阀的密封元件，并且还涉及一种根据权利要求12所述的用于制造这种真空阀的密封面的方法。背景技术一般地，在现有技术中以不同的实施方式已知了基本上气密地封闭或调节流动路径的真空阀，该流动路径穿过在阀壳体中成型的开口。真空滑阀特别使用在IC制造和半导体制造的领域中，所述IC制造或半导体制造必须在受保护的氛围中尽可能在不存在污染性颗粒的情况下进行。例如，在半导体晶片或液晶基板制造设备中，高度敏感的半导体元件或液晶元...
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