技术编号：15046119
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及显影装置领域，特别涉及一种新型的显影装置。背景技术由于摩尔定律的作用，半导体器件变得越来越小，在晶圆上形成的图案尺寸也随之变小，随着晶圆尺寸的变大和对显影分辨率要求的提升，对于工艺中的条宽均匀性的要求也在提高，由于掩模与晶圆的条宽是一定比例的投影关系，因此对掩模的条宽均匀性的要求也越来越严格。其中显影对线宽均匀性的影响很大，以往的显影方式会造成中心和边缘处显影液覆盖不均匀导致的条宽均匀性较差的问题；现有的显影装置在使用时存在一定的弊端，不能够有效的改善因显影液覆液不均匀导致的条宽均匀性...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。