技术编号:15057537
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及多晶硅生产设备领域,具体涉及一种制备多晶硅的还原系统。背景技术目前多晶硅的工业生产工艺主要有:改良西门子法——闭环式三氯氢硅氢还原法,硅烷法——硅烷热分解法,流化床法,冶金法和气液沉淀法。其中改良西门子法在多晶硅生产当中是一种非常成熟的方法,国内大部分厂家都是利用这种方法来生产多晶硅。改良西门子法工艺分为六个步骤:三氯氢硅合成工序,三氯氢硅提纯工序,三氯氢硅还原工序,尾气回收工序,氢化工序,后处理工序。合成工序是在流化床反应器中用纯度约99%的金属硅(工业硅)与HCI反应生成三氯氢...
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