技术编号:15072898
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及哈氏合金表面处理技术领域,尤其涉及一种不同长度的哈氏合金基带的双带电化学抛光方法。背景技术超导带材的生产工艺流程大致分为电化学抛光,中间过渡层生长以及功能层的外延生长。电化学抛光是在一定温度、电流、电压条件下,电解质溶液中,电极阳极合金不断溶解的过程。电化学抛光的抛光效果受抛光电流、抛光电压、抛光温度、抛光速度、抛光液成分、抛光液流速以及抛光材料属性等因素的影响。哈氏合金基带进行电化学抛光一般分为单带抛光、双带抛光。单带抛光,即在一定的抛光电流、抛光电压、抛光温度、抛光速度下,对单根哈...
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