技术编号：15076092
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及成像技术领域，特别涉及一种大面积金属光栅的制备方法及制备系统。背景技术金属光栅的传统制备方法包括LIGA(lithographie,galvanoformung und abformung；光刻，电镀和铸造(工艺))、准LIGA、电子束光刻、离子束刻蚀及DRIE(Deep Reactive Ion Etching，深反应离子刻蚀)-电铸等方法。在现有技术中，制作面积超过(80～100)2mm2的光栅难度非常高，例如采用静态全息干涉会面临光栅边缘区域性能差的问题，采用电子束光刻存在加工效...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。