具有阵列式静电防护结构的LDMOS器件的制作方法技术资料下载

技术编号:15079304

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本发明涉及一种具有阵列式静电防护结构的LDMOS器件。背景技术LDMOS是一种横向双扩散结构的射频功率器件,和普通功率MOS器件相比,LDMOS器件在靠近栅极侧多了一个轻掺杂的漂移区,用以承担器件工作的高压。在靠近栅附近漂移区的表面存在高电场,导致器件在高电场附近首先击穿,和普通的MOS器件相比,LDMOS具有准饱和效应和大功率情况下的负阻效应。正因为LDMOS的这些结构特点,和双极晶体管相比,具有线性度高、增益高、温度稳定性好、可承受的驻波失配比高、偏置电路简单等明显优点。因此,LDMOS广泛...
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