技术编号:15097466
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及刻蚀技术领域,具体涉及一种干法刻蚀设备。背景技术干法刻蚀在显示面板的制作中有着不可替代的作用,在干法刻蚀工艺中一般采用等离子体对基板进行刻蚀。现有的干法刻蚀设备包括:反应腔、位于反应腔内的上电极和下电极。在具体实施时,将待刻蚀基板放置与下电极上,反应腔内通入等离子体,并且向上电极和下电极施加电压以使得二者之间形成电势差;在电场作用下,等离子体获得很高的能量并以很高的速度轰击待刻蚀基板从而实现刻蚀。在刻蚀过程中,等离子体轰击待刻蚀基板会将部分能量传递给待刻蚀基板,使得待刻蚀基板的温度升高...
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