技术编号:1510578
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种光掩模冲洗的装卡装置,属于半导体制造。 背景技术“光掩模”是集成电路芯片制造中用于批量印刷电路的模版。通过光刻工艺,将光掩模上的电路图案大批量印刷到硅晶圆上。因此光掩模上的任何缺陷都会对芯片的成品率造成很大的影响。在光掩模的制造过程中,当光掩模曝光、显影之后,需要去除表面的光刻胶。因此需要光掩模进行清洗。而常规是将光掩模放在一个相对封闭的工艺处理舱内,工艺处理舱内处于洁净氛围内,将光掩模放置在工艺处理舱内定位座上,通过电机使光掩模处于旋转...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。