技术编号:15109087
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及液晶显示领域,尤其涉及一种遮蔽框及化学气相沉积装置。背景技术现代的半导体器件需要从玻璃基板沉积和移除导电、半导电以及介电材料的多个层来形成特征,例如有机发光二极管(OLED)、晶体管、以及低介电常数的介电薄膜。玻璃基板处理技术包括化学气相沉积(CVD)、物理气相沉积(PVD)、等离子体增强化学气相沉积(PECVD)、蚀刻等。因为沉积薄膜所需要的相对较低的处理温度、以及能够由使用等离子体处理带来的良好的薄膜质量,等离子体处理广泛地用在平板设备的生产中。在处理期间,玻璃基板的边缘和背面以及...
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