技术编号:15140670
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及湿式制程设备领域,尤其涉及一种扰流式气液分离回收装置。背景技术半导体制程是在超洁净无尘室进行的,仍然有些污染源的存在,至于污染源的来源,不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师人体自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生,以及制程反应产生物的结果,尤其是制程反应产生物一项,更成为制程污染的主要来源,大多会造成良率和可靠度的下降;在半导体制程中,无论是在去光阻、化学气相沉淀、氧化扩散、晶圆研磨以后等各阶段制程都需要反复清洗步骤。湿式制程机台在半导体产业已是成熟发展,但...
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