技术编号：15163350
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明属于纳米光子器件技术领域，通过光刻技术在光刻胶薄膜中制备微透镜阵列，单光束经其聚焦成像刻蚀得到二维光栅结构，通过溶液法以及退火工艺得到具有等离激元共振特性的结构。背景技术金属纳米结构具备丰富的光物理特性，其本质主要来自结构内部的表面等离激元和局域表面等离激元。这一光物理过程强烈依赖于金属材料的属性、纳米结构的尺寸和形貌以及外界环境的折射率，主要表现为能够突破传统光学衍射极限和具有极强的局域场增强特性。在生物、化学、材料、能源等领域具有一系列重要广泛的应用，同时，由于其限域于金属纳米结构的表...
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