技术编号:15181791
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及半导体制造技术领域,具体地,涉及一种气源及半导体加工设备。背景技术化学气相沉积(Chemical Vapor Deposition,以下简称CVD)是半导体工业中应用最为广泛的用来沉积多种材料的技术。在进行化学气相沉积工艺的过程中,将两种或两种以上的气态原材料传输至反应腔室内,然后气态原材料相互之间发生化学反应,形成一种新的材料,并沉积到晶片表面上。在CVD反应设备中,一般通过气源向反应腔室内输送工艺气体。该气源可以通过对液源进行加热而产生工艺气体。现有的液源包括用于盛放液源的腔体...
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