技术编号:15183704
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种柔性氧化铟锡(ITO)透明导电薄膜湿法刻蚀及图案化的方法,属于光电子技术领域。背景技术氧化铟锡薄膜作为一种用半导体材料制备而成的透明导电氧化物薄膜,具有良好的化学稳定性、高电导率、高透光性、易图案化,已经被广泛的应用于太阳电池、柔性显示技术、节能建筑窗、航空航天领域等诸多方面。在这些应用中,氧化铟锡薄膜作为透明电极需制成不同所需图案。目前,市场上氧化铟锡薄膜的刻蚀主要是采用干法刻蚀,但是干法刻蚀设备昂贵、工艺复杂、成本较高、刻蚀速度低,且无法满足大批量生产。因此,本发明结合卷对卷印...
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