技术编号：15219445
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及对半导体晶片等基板进行处理的基板处理方法以及基板处理装置。背景技术在半导体装置的制造工序中，向半导体晶片等的基板的表面供给处理液，使用处理液对该基板的表面进行处理。例如，对基板一张一张地进行处理的单张式的基板处理装置具有：旋转卡盘，将基板保持为大致水平，并使该基板旋转；喷嘴，用于向由该旋转卡盘旋转的基板的表面供给处理液。例如，向由旋转卡盘保持的基板供给药液，然后供给冲洗液，由此基板上的药液被冲洗液置换。然后，进行用于排除基板上的冲洗液的旋转干燥处理。在旋转干燥处理中，通过使基板...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。