技术编号：15223407
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种压敏粘合剂组合物。更具体而言，本发明涉及一种能够形成图案的压敏粘合剂组合物以及由其形成的压敏粘合剂图案。背景技术光刻法是形成诸如半导体、薄膜晶体管、触摸电极等的各种微型图案时最广泛使用的方法，是在基板上沉积用于形成图案的材料后获得微型图案、然后通过使用光致抗蚀剂形成对应于该图案的抗蚀剂图案的方法。通过使用光致抗蚀剂来形成光致抗蚀剂图案的典型方法包括：成膜工艺，其中将用于光致抗蚀剂的感光树脂组合物涂布在用于形成图案的材料的沉积膜上；曝光工艺，其中通过使用对应于待形成的图案而准备的掩模...
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