技术编号：15224034
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及研磨设备领域，具体是涉及一种易清洁的硅片研磨台。背景技术现有的硅片研磨台缺少清洁装置，使得硅片研磨之后，还需要人员进行台面清洁处理，非常的不便，清洁效率低，容易产生遗留。实用新型内容本实用新型要解决的技术问题是克服现有技术硅片研磨机清洁效率低的缺陷，提供一种易清洁的硅片研磨台。为解决上述技术问题，本实用新型提供以下技术方案：一种易清洁的硅片研磨台，包括研磨台，所述研磨台的内部开设空腔，空腔内安装环板，所述环板的内侧壁围绕轴线设置齿块，所述研磨台的底部嵌入安装电机，电机的转轴伸入空腔...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。