技术编号:1528880
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及超声波(包括兆声波)清洗衬底表面的领域。背景技术从半导体衬底去除颗粒污染物可以通过超声波清洗来实现。当超声波的频率接近或超过1,OOOkHz (IMHz)时,它通常被称为“兆声波”。靠近任何液体-表面的界面的声学激活的气泡导致(a)在该表面的可以造成从该表面去除微粒污染物的剪切应力,(b)可以导致增强有利于电化学沉积工艺、蚀刻、清洗和混合的扩散有限反应的微流(microstreaming),以及(c)接近表面的局部活性成分的富集以影响如氧化工艺和...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。