技术编号：1529481
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种集成电路制造方法，尤其涉及一种能够提高晶圆清洁度的清洗甩干方法及清洗甩干设备。背景技术在集成电路的制作过程中，晶圆表面的洁净度及表面态对高质量的硅器件工艺是至关重要的。如果表面质量达不到要求，无论其它工艺步骤控制得多么优秀，也是不可能获得高质量的半导体器件的。除去晶圆表面上的沾污已不再是最终的要求。到目前为止，清洗方法有许多种，主要有物理清洗和化学清洗。其中化学清洗方法较为常用，但清洗后的甩干中，有时会有少许液体残留，影响晶圆表面的洁净度。图...
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