技术编号:15299325
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本申请要求于2016年1月21日提交的题为“用于对EUV容器和EUV收集器进行靶材料碎片清洁的系统、方法和装置(SYSTEM,METHOD AND APPARATUS FOR TARGET MATERIAL DEBRIS CLEANING OF EUV VESSEL AND EUV COLLECTOR)”的美国实用申请No.15/003,385的权益,其通过引用整体并入本文。背景技术极紫外(EUV)光用于诸如极紫外光刻(EUVL)等应用。极紫外(EUV)光可以使用EUV光源来生成,在EUV光源中...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。