半导体装置的制作方法技术资料下载

技术编号:15308481

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本发明涉及一种半导体装置,具体为涉及一种具有半导体开关以及齐纳二极管(Zener Diode)的半导体装置。背景技术以往,具有包含所谓MOS结构的半导体开关的半导体装置已被普遍认知。在这样的半导体装置中,设置有齐纳二极管来用于过电压保护。而齐纳二极管通常被设置为N型半导体层与P型半导体层相邻配置的结构。例如,当半导体开关为绝缘栅极双极晶体管(Insulated Gate Bipolar Transistor:IGBT)时,在集电极与栅电极之间设置有第一齐纳二极管,而在栅电极与发射极之间设置有第二...
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