一种真空镀膜设备以及镀膜方法与流程技术资料下载

技术编号:15327677

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本发明涉及一种真空镀膜设备以及镀膜方法。背景技术将高分子材料裂解成纳米分子后在真空环境内均匀无间隙附着在产品表面形成纳米保护膜,称之为真空气相沉积纳米镀膜。这种工艺的纳米镀膜与传统镀膜或者喷油、喷漆具有以下特性:1、防水防潮无细孔,密封性好;2、镀膜耐酸碱、绝缘等级高、防静电产生;3、镀膜表面平顺,防污脏物粘附,摩擦力小,易擦洗;4、外观色泽,可根据需求调整,从高透明到其它颜色。5、镀膜厚度是从0.1微米到50微米以上皆可;6、镀膜附着力好,无内内应力,气泡孔,镀膜适应环境温度±200℃,不脱落...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。

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