技术编号：1541351
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种抗蚀剂剥离剂的组合物，它对于半导体设备、液晶显示器等制造中使用的光致抗蚀剂、以及在蚀刻和灰化过程之后的保留的残余光致抗蚀剂来说具有优异的剥离性，并为金属膜或各种无机材料膜形成的基板提供优异的耐腐蚀性。本发明的抗蚀剂剥离剂组合物对于金属线图以及孔图具有高的剥离效果。作为典型的剥离剂组合物，已经使用基于羟基胺(ACT-935，Ashland公司提供，或EKC-270，EKC公司提供)、氢氧化四甲基铵、氟化铵(EKC-640，EKC公司提供)的剥离...
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