技术编号:1543495
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明公开了一种用于除去在显影之后的最后工艺过程中在洗涤半导体基片中使用的光致抗蚀剂树脂的洗涤液。更具体地,本发明公开了一种用于除去光致抗蚀剂的洗涤液,其包括作为主要成分的水(H2O),作为添加剂的一种或多种表面活性剂和醇化合物,该表面活性剂选自聚氧化烯化合物、式1的醇胺与具有羧酸(-COOH)基团的烃化合物的盐、式1的醇胺与具有磺酸(-SO3H)基团的烃化合物的盐、聚乙二醇化合物、式3的化合物、分子量范围为1000~10000并含有式4重复单元的化合物和...
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