技术编号:15437244
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及机械设备领域,具体而言,涉及一种抛光机构及载体装置。背景技术抛光是指利用机械、化学或电化学的作用,使工件表面粗糙度降低,以获得光亮、平整表面的加工方法。是利用抛光工具和磨料颗粒或其他抛光介质对工件表面进行的修饰加工。现有的装置在进行抛光的过程中,抛光效果较差。实用新型内容本实用新型的目的在于提供一种抛光机构,能够提高抛光效果。本实用新型的目的在于提供一种载体装置,能够提高抛光效果。本实用新型提供一种技术方案:一种抛光机构,用于抛光工作辊,包括驱动组件、抛光组件及支撑组件;所述抛光组...
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