技术编号:1544255
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及晶体硅太阳电池制造领域,具体为晶体硅太阳电池生产中扩散工序的石英舟清洗和饱和处理方法。背景技术扩散工序是晶体硅太阳电池生产中形成PN结的工序,主要的原理是采用三氯氧磷液态源在高温下与氧气反应生成单质磷沉积在P型晶体硅表面的过程,其化学反应式如下5P0C13 — 3PC15+P205 在进行扩散时,先将硅片插在石英舟内,然后将插满硅片的石英舟放入扩散炉管中进行扩散,扩散完毕将硅片从石英舟内取出,然后再插入新的硅片进行下一批的扩散,因此在生产过程中...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。