技术编号:1545765
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及用于湿式清洗半导体、液晶用基板等的电子材料(电子部件、电子构 件等)的电子材料用清洗水,使用该电子材料用清洗水的电子材料的清洗方法及该电子材 料用清洗水的制造方法。另外,本发明还涉及溶气水的供给系统。背景技术为了从半导体用硅基板、液晶用玻璃基板、光掩膜用石英基板等的电子材料的表 面除去微粒、有机物、金属等,通过所谓称为RCA清洗法的以过氧化氢为基础的浓药液,在 高温下进行湿式清洗。RCA清洗法是用于除去电子材料表面的金属等的有效的方法,但为了 使...
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