技术编号:15464219
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及纳米压印技术领域,尤其涉及一种图形化方法。背景技术纳米压印技术是在纳米尺度获得复制结构的一种成本低而速度快的方法,它可以大批量重复性地在大面积基板上制备纳米图案结构。纳米压印技术,是通过阻蚀剂的物理变形来实现图形转移,其分辨率不受光波波长等因素限制,可突破传统光刻工艺的分辨率极限,同时还具有低成本、大深宽比等优点。目前报道的纳米加工精度已经达到2纳米,超过了传统光刻技术能够达到的分辨率。目前常用的纳米压印技术分为如下三个步骤:第一步:模板的加工;该步骤一般使用电子束刻蚀等手段,在硅或其...
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