技术编号：15509696
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及纳米加工科技领域，特别是涉及一种高频交流电驱动的局域阳极氧化加工方法。背景技术目前常用的微纳米加工技术主要有电子束曝光(Electron Beam Lithography)、光学曝光(Photon Lithography)、扫描探针直写加工(Scanning Probe Lithography)等。电子束曝光和光学曝光在加工过程中需要先在样品表面覆盖一层有机物阻剂，然后用高能电子束或光束照射在阻剂表面形成所需图案，再通过刻蚀等手段将图案转移到样品上，最后将阻剂去除。其缺点是有机物阻剂往...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。