技术编号:15519975
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明的实施方式涉及高频发生器和等离子体处理装置。背景技术在电子器件的制造中,有时进行对被加工物的等离子体处理。用于等离子体处理的等离子体处理装置具有腔室主体。腔室主体提供其内部空间作为腔室。在等离子体处理装置中,为了激发腔室内气体,使用高频(高频能量)。因此,等离子体处理装置具有高频发生器。由高频发生器产生的高频,例如可以为微波,或者,属于从LF频带到VHF频带的频带区域的高频。高频发生器具有控制从其输出部输出的高频的功率和相位的部分。这样的高频发生器具有定向耦合器。定向耦合器输出包含向输出部...
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