技术编号：15577472
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明一般性地涉及一种曝光装置，尤其用于直接曝光用光敏层覆层的基底以制造电路板或印刷电路板或成型刻蚀件的直接曝光装置或光刻曝光装置，以及涉及用于借助根据本发明的直接曝光装置进行曝光的相应的方法。尤其地，本发明涉及一种曝光装置，所述曝光装置具有至少一个UV光束，所述UV光束通过可改变的偏转装置相对于基底偏转，以便在光敏层中产生结构。优选地，光束由不同UV波长的两个或更多个激光束形成。尤其地，空间上在图像平面中和时间上在曝光中，将空间限制的、优选外部支承的热源与激光束叠加，其中优选地将具有行式光学装...
注意：该技术已申请专利，请尊重研发人员的辛勤研发付出，在未取得专利权人授权前，仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。
该类技术注重原理思路，无完整电路图，适合研究学习。