技术编号：15629934
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及气体供应领域，尤其是涉及一种用于高纯硅烷供气的脉冲反吹装置。背景技术硅烷是半导体生成常用的气体，它性质是易燃易爆气体，它和空气中的氧气反应生成二氧化硅粉末。对于高纯管道而言，二氧化硅粉末滞留在管道中会产生负面影响，尤其是如果二氧化硅粉末在阀门的密封面，长期而言会对精密阀门的密封面造成磨损，形成内漏，也就是阀门无法有截止作用；所以要定期对高纯硅烷供应管路进行脉冲反吹，尤其是气源更换后，残留硅烷和断开气源进入的空气可能形成二氧化硅粉末，但是普通的气流吹扫是无法清洗完全的，因为气流比较平缓。...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权，增加技术思路，做技术知识储备，不适合论文引用。