技术编号：15641861
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。技术领域本发明涉及曝光方法及曝光装置、以及元件制造方法，特别涉及 在制造半导体元件等微元件(电子元件)的光刻处理所使用的曝光方法 及曝光装置、以及使用前述曝光方法或曝光装置的元件制造方法。现有技术一直以来，对于制造半导体元件(集成电路等)、液晶显示元件等 电子元件(微元件)的光刻处理，主要使用步进重复(step&repeat)方式 的投影曝光装置(所谓的步进机)、或步进扫描(step&scan)方式的投影 曝光装置(所谓的扫描步进机(也称为扫描机))等。此种曝光装置，随着半导体元...
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