技术编号:15664304
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型属于真空溅射镀膜技术领域,尤其涉及一种蒸发源装置以及溅射镀膜设备。背景技术蒸发源装置包括具有蒸发腔的蒸发箱以及两个置于蒸发腔内的坩埚,蒸发箱于其侧壁开设于蒸发腔连通与真空镀膜室对接的出料口,其中,由于两坩埚均置于同一蒸发箱内,而蒸发箱仅开设有一个出料口,这样,在使用过程中,当出料口的上下区域的出料量不同时,不能进行调整,从而导致镀膜的均匀性较差。实用新型内容本实用新型的目的在于克服上述现有技术的不足,提供了一种蒸发源装置,其旨在解决镀膜的均匀性较差的问题。本实用新型是这样实现的:一种蒸...
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