技术编号:15667890
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种研磨装置,尤其是涉及一种二氧化硅粉研磨装置。背景技术黑硅就是把硅片弄成黑色,硅片还是原来的硅片,在表面用涂料做一层涂层,可以大量减少反射,这样硅片看起来就是黑色的了。制法就是刷涂层,让表面有一颗一颗的凸起,涂层的主要成份是二氧化硅。我们看现有的硅电池片,都是蓝色的,然后上面有格栅,这样的硅片已经做了钝化处理,钝化的目的是减少反射和去掉悬空键,但是我们看起来还是蓝色的,亮亮的,所以黑硅比现有的钝化要高明很多。现有的钝化需要严格的温度要求,还要真空。二氧滑轨涂层需要通过二氧化硅粉制...
注意:该技术已申请专利,请尊重研发人员的辛勤研发付出,在未取得专利权人授权前,仅供技术研究参考不得用于商业用途。
该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。