技术编号:15703111
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种包含亚微米(微米=um)甚至百纳米(纳米=nm)级别尺寸通孔或图案的光学高分辨率测试靶的制造方法。属于应用光学领域中的光学精密检测领域。背景技术在光学精密检测领域,对显微镜系统的成像质量作定性检验或对其实际光学分辨能力进行测试和标定,需要使用比其理论的光学分辨率更小尺寸的图案或通光孔,通常称之为分辨率测试靶。检测中最常用的一种方法是星点检验方法。这种方法是通过将一个点光源置于光学系统的前焦面上,通过成像系统获得其在像面上的衍射像(通常称为星点像)。星点像包含了除畸变、透过率和杂光外...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。