技术编号:15730798
提示:您尚未登录,请点 登 陆 后下载,如果您还没有账户请点 注 册 ,登陆完成后,请刷新本页查看技术详细信息。本实用新型涉及一种介质阻挡放电低温等离子体射流发生装置。背景技术大气压等离子体射流,凭借其产生于开放空间、而不受狭窄气隙间隔限制的显著特点,能够对各种形状的样品进行处理,因而在等离子体医学、纳米技术、表面改性及薄膜层积等应用领域受到广泛关注。为了提高等离子体射流的工作效率、避免因焦耳热损伤被处理样品表面,人们都在极力研发类似于低气压条件下汤森或辉光的弥散放电。在等离子体射流的产生中,确保等离子体的弥散性和稳定性尤为重要。介质阻挡放电是产生等离子体射流的一种常见方式。为了获取弥散稳定的等离子体射流...
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该专利适合技术人员进行技术研发参考以及查看自身技术是否侵权,增加技术思路,做技术知识储备,不适合论文引用。
该类技术注重原理思路,无完整电路图,适合研究学习。