技术编号：15735386
提示：您尚未登录，请点 登 陆 后下载，如果您还没有账户请点 注 册 ，登陆完成后，请刷新本页查看技术详细信息。本发明涉及一种用于将前体供应至后面工艺的气体供应系统和供应方法。此外，本发明涉及一种用于检测前体的量的前体量检测系统和前体量检测方法。背景技术为了生产微电子装置，诸如半导体集成装置和液晶面板，需要在基底上形成不同材料的膜。此外，近年来已实践的是在不同构件上形成干涂层以改进那些构件的特征，诸如强度。广泛已知的膜形成和涂覆的方法包括物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)和原子层沉积(ALD)。随着半导体工业推进，已倾向于降低用于膜形成的前体的蒸气压，以便满足严格的膜要求。可以提及的用于膜形成...
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